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摘要
ENPI 200系列是一種鹼性顯影用的負型光阻劑,應用于lift-off制程使用。
特性
●附著性佳
●去除性佳
●安全溶劑
研磨浆料 ESR236
摘要
組成:分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成。
特性:拋光液有更快速的研磨速度,並且提升拋光布的使用壽命。迴圈式或非迴圈式制程皆適合使用。
用途:ESR 236在20~30倍稀釋後,適用於矽片拋光的第1階段、第2階段拋光,可達到極佳的拋光表面,減少最後段精拋成本、並提高良率。
研磨浆料 ESR301
研磨浆料 ESR303
摘要
組成:分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成。
用途:稀釋1~2倍後,適合於Sapphire、LiNbO3 和 LiTaO3.…等晶圓的拋光。
特性:ESR 301有高速的磨除速度並達到良好的拋光表面,可回收迴圈使用,在高溫下能保持其穩定性,可用於陶瓷基板晶圓前段拋光。ESR 303的拋光參數容忍範圍大,可用于前段拋光,亦適合用於最後段的精細拋光,可達到近完美的拋光表面。
研磨浆料 ESR501
摘要
組成:分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成。
用途:稀釋1~2倍後,適合於各類不銹鋼材的鏡面拋光加工。
特性:ESR 501不會在鋼材表面造成額外的腐蝕傷害,並可以快速達成鏡面拋光加工。